RF Sensor mit FabGuard Echtzeit-Analyse von Plasmaprozessen zur Reduzierung von Prozessabweichungen
Die INFICON RF-Sensortechnologie bietet enorm präzise, frequenzunterscheidende RF-Breitbandmessungen für die Halbleiterverarbeitung. Diese RF-Daten ermöglichen detaillierte Einblicke in die tatsächlichen Plasmabedingungen, sowohl in der Prozessentwicklung als auch bei Problemen in Produktionsprozessen, mit denen Prozessabweichungen wesentlich verringert werden können. Als Neuentwicklung in dieser Reihe hoch entwickelter Sensoren zur Vor-Ort-Prozesssteuerung kann dieser beeinflussungsfreie, am Kabel montierte RF-Sensor mit dem FabGuard Sensor Integration and Analysis System kombiniert werden, um wichtige Diagnoseinformationen zu ermitteln, z. B. präzise Messungen der Kammer- und Prozessleistung sowie der Impedanz, Ursachenanalyse bei Fehlern (beispielsweise entsprechende Netzwerkprobleme), Prozessfingerabdrücke für den Kammernabgleich und Wafer-Messtechnikmodelle in PVD-, CVD- und Ätzanwendungen.
Anhand der INFICON RF-Sensortechnologie mit FabGuard lassen sich enorm präzise Modelle zur Vorhersage von Wafermesstechnischen Ergebnissen erstellen, die auf Messungen und Analysen der grundlegenden und harmonischen Spannungen und Stromflüsse beruhen, einschließlich Phasenwinkelmessungen. So können Techniker die tatsächlichen Waferergebnisse für jeden verarbeiteten Wafer prüfen. Die Kombination des einzigartigen, leistungsstarken FabGuard-Algorithmus mit der RF-Sensortechnologie bietet wesentliche Verbesserungen bezüglich Wiederholbarkeit, Stabilität und Präzision von Halbleiterprozessen auf Grundlage von Echtzeitmessungen und Korrelation. Die Steuerung erfolgt über eine übersichtliche Benutzeroberfläche.
Anwendungen
CVD
- Wafer-Messtechnikmodelle (Schichtspannung, Schichtdicke)
- Aktive Steuerung der tatsächlich von der Prozesskammer aufgenommen Leistung
- FDC (z. B. Plasmainstabilität, Ladung)
- Kammernabgleich (RF-Fingerabdruck)
PVD
- Wafer-Messtechnikmodelle (spezifischer Widerstand)
- Kammernabgleich (RF-Fingerabdruck)
Ätzverfahren
- Wafer-Messtechnikmodelle (Ätzrate)
- Aktive Steuerung der tatsächlich von der Prozesskammer aufgenommen Leistung
- Kammernabgleich (RF-Fingerabdruck)
ASSOCIATED TECHNICAL INFORMATION
Brochures and Datasheets:
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RF Sensor with FabGuard Integration Software
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