|
|
|
RFS100 RF センサ
|
FabGuard付きRFセンサはプロセスの変動性を大幅に軽減するため、リアルタイムでプラズマプロセス分析を提供します
INFICON RFセンサ技術は、半導体プロセス装置に、高い精度、広帯域、周波数判別RF計測をもたらします。このRFデータによって、プロセス開発と製造プロセス問題の両面における実際のプラズマ状況を細かく見極めることができ、プロセスの変動を著しく抑えます。高度なプロセスコントロールである//in situ//に適応した最新のセンサは、邪魔にならない直線ケーブル搭載のRFセンサで、FabGuardセンサ統合および分析システム と組み合わせてあり、正確なチャンバー/プロセスパワーそしてインピーダンス計測といったクリティカルな診断情報、不具合（ネットワーク問題のマッチングなど）の根本原因の分析、チャンバーマッチングのためのプロセス指紋、PVDやCVD、エッチング作業におけるウェハ計測モデリングなどを提供します。
エンジニアがプロセスされたウェハすべてに対してウェハの実際結果をコントロールする能力を持たせるため、FabGuard付きINFICON RFセンサ技術は、移送角計測値を含む基本および調波の電圧電流の計測および分析の実施することで、ウェハ計測結果を予測する非常に高精度なモデルを生みだします。FabGuardの比類なく強力なアルゴリズムの能力をRFセンサ技術と組み合わせ、リアルタイムの計測値および簡単に解釈できるユーザーインターフェースによって提供される相関にをベースにすることで、大幅に半導体プロセスの再現性、安定性、精度を改善します。
用途
CVD
- ウェハ計測のモデリング（膜圧、膜厚）
- プロセスチャンバーによって送られる真のパワーのアクティブパワーコントロール
- FDC (例：プラズマ不安定性、チャージング)
- チャンバーマッチング (RF指紋)
PVD
- ウェハ計測モデリング（抵抗性）
- FDC
- チャンバーマッチング (RF指紋)
エッチング
- ウェハ計測モデリング（エッチング率）
- プロセスチャンバーによって送られる真のパワーのアクティブパワーコントロール
- FDC
- チャンバーマッチング (RF指紋)
ASSOCIATED TECHNICAL INFORMATION
Brochures and Datasheets:
 |
RF Sensor with FabGuard Integration Software
English
|
|
|
|
|
